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紫外臭氧清洗機(jī)為什么使用廣泛?

更新時(shí)間:2021-05-12       點(diǎn)擊次數(shù):2025
  隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,清洗工藝在光電產(chǎn)品中是不會(huì)缺少的工藝,清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來(lái)越重要。如何保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率,且同時(shí)保證生產(chǎn)的安全性及生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)環(huán)境的保護(hù)?那么,對(duì)使用者來(lái)說(shuō)選擇高潔凈度,且又具有安全、環(huán)保性能的清洗設(shè)備尤為重要,在以往的清洗技術(shù)(化學(xué)清洗和物理清洗)中,很難達(dá)到要求。那在又安全又環(huán)保的前提下,如何*清除物體表面的污物?目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗,它能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染,同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^(guò)程縮短。

  紫外臭氧清洗機(jī)是一種采用無(wú)接觸方式,在空氣中進(jìn)行且在清洗后不必進(jìn)行干燥。在清洗過(guò)程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看,清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài),氣相物質(zhì)被吸附在固體表面,被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子,產(chǎn)物分子解析形成氣相,反應(yīng)殘余物脫離表面。

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