產(chǎn)品分類
Product CategoryCIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備,合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計,優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。CIF等離子清洗機F系列性能穩(wěn)定,操作簡單方便,易維護。
CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設(shè)計,清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時可實現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
紫外臭氧清洗機(UVOzone Cleaner, UVO),是一種簡單,經(jīng)濟,快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)表面上的有機污染物。
CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機,采用 RIE 反應(yīng)離子誘導激發(fā)方式,實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。
CIF推出全新一代 CPC-10系列實驗室型等離子體清洗設(shè)備, 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高效, 特別適合于大學, 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設(shè)備, 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高效, 特別適合于大學, 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。
CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備,合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計,優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。 CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列性能穩(wěn)定,操作簡單方便,易維護。
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