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英國(guó)Ossila小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊,價(jià)格實(shí)惠,使用簡(jiǎn)單,準(zhǔn)確度高。 對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大實(shí)驗(yàn)工藝的用戶來(lái)說(shuō),它是理想之選。與卷對(duì)卷和片對(duì)片沉積工藝相兼容,狹縫涂布是用于可擴(kuò)展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無(wú)缺陷的沉積,適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高,準(zhǔn)確且可重復(fù),厚度可通過(guò)改變流速和基材速度來(lái)控制。
英國(guó)Ossila公司勻膠旋涂?jī)x,操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮?dú)猓湍苓_(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂?jī)x可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂?jī)x廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。
英國(guó)Ossila SpinProcessor,操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果??蓪?duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到完美的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯
英國(guó)Ossila-Spin Coater操作簡(jiǎn)單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果??蓪?duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到較好的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。
UV Ozone Cleaner是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤(pán)上,關(guān)上艙門(mén),設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
紫外臭氧清洗機(jī)具有干洗處理、無(wú)需真空處理、無(wú)破壞燈特長(zhǎng),紫外線燈和照射裝置的高輸出照射技術(shù),實(shí)現(xiàn)了以往用溶劑或超聲波清洗液難以達(dá)到的高品質(zhì)、高速處理效果。為客戶能制造出更高品質(zhì)的產(chǎn)品而提供紫外線清洗和紫外線改質(zhì)。
英國(guó)Ossila旋涂機(jī)/鍍膜機(jī),方便實(shí)用,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,占地空間小,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的旋涂盤(pán),無(wú)需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果,操作簡(jiǎn)單方便,旋涂均勻,可對(duì)大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。 Ossila旋涂機(jī)內(nèi)置調(diào)整水平裝置,Z大限度的保證旋涂均勻。
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